Nano Systems Engineering : Et nationalt instrumentcenter på DTU for nanolitografi

NANOS konsortiet repræsenterer en betydelig forskningskompetence og -aktivitet inden for nanofluidics, nanobiotekno-logi, NEMS, nanofotonik og nanoelektronik, som baserer sig på udbredt anvendelse af nanolitografiske teknikker. Som led i projektet opbygges et nationalt center for nanolitografi, som - med tilhørende ekspertise - vil blive stillet til rådighed for samtlige nationale brugere.

DTU har indkøbt en e-beam skriver af meget høj kvalitet, som danner hovedhjørnestenen i et instrumentcenter for nanolitografi. Ved hjælp af denne vil man kunne skrive mønstre med en opløsning på nogle få nanometer over meget store area-ler (wafers). Disse mønstre vil i kombination med passende ætseteknikker (tør og våd) danne udgangspunkt for fremstillingen af to- og tre-dimensionale nanostrukturer i hårde materialer som metaller, halvledere og glas. Direkte e-beam skrivning af na-nostrukturer er tidskrævende og dyrt, og egner sig derfor bedst til fremstilling af små styktal til test, som prototype eller som mastere til nanostøbning eller nanoimprint.

Den egentlige fremstilling af to- og tredimensionale nanostrukturer og –systemer kræver en række detailprocesser som deponering, ætsning, lift-off, støbning og præg-ning (imprint), der skal specialudvikles til hvert materialesystem, som man vil arbejde i og til hver funktionalitet, som man vil opnå. Dette er meget tids- og ressourcekrævende, da det skal foregå under meget velkontrollerede betingelser (renrum og ultra-rene materialer, kemikalier og gasser). Vi forestiller os, at man i løbet af to år vil kunne udvikle og dokumentere de processer, der er relevante for de respektive materialesystemer og funktionaliteter.